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The Foundry Mari(纹理绘制工具)V5.0最新版

The Foundry Mari(纹理绘制工具)V5.0最新版
  • 软件分类: 网络聊天
  • 软件大小: 2.20 GB
  • 软件语言: 简体中文
  • 授权方式: 免费软件
  • 运行环境: Win ALL
  • 更新时间: 2022-09-03
  • 软件介绍
  • 下载地址
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Mari5.0最新版是由The Foundry公司开发的一款强大的纹理制作软件,它拥有超越许多二维绘图系统的创意工具组,让艺术家们能专注于绘制工作。通过它,用户可以直接在模型上绘制纹理,实时看到效果,不但省时,更将纹理绘制工作带到前所未见的境界。与其他同类型的纹理绘制软件相比,Mari5.0彻底告别以往绘制、渲染、审查和修改的循环程序,现在一个模式的所有纹理皆能同时载入Mari,省去大量分割模型的麻烦。感兴趣的小伙伴快来下载吧。

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

Mari5.0最新版亮点

您会喜欢的艺术家友好型绘画工具

Mari 直观的画笔工具包和投影绘画让您忘记技术并专注于您的创造力。

从一系列预设画笔中进行选择或使用熟悉的 ABR Photoshop 画笔,并使用非破坏性技术完善您的绘画

打造你的造型

3D 绘画从未如此流畅或灵活。无论您是在 Mari 强大的节点图还是图层系统中工作,您都可以自由地将绘画与程序、滤镜、色彩校正和蒙版混合在一起。

在你的步伐中承担巨大的复杂性

Mari 能够处理每个对象的多个 UV 平铺、与数百万个多边形的实时交互并支持高达 32K 的纹理,提供几乎无限的细节,同时保护您免受复杂的文件管理任务的影响。

消除猜测

Mari 的物理正确交互式预览具有阴影、环境照明、镜面高光和对 Unreal、Arnold、V-Ray 和 Redshift 着色器的内置支持,因此您可以自信地开发您的外观。

烘烤至完成

使用 Modo 强大的烘焙引擎直接在 Mari 中烘焙纹理,并自动将生成的烘焙纹理应用于网格。您还可以使用 Mari 的非破坏性烘焙点节点在复杂项目上获得更好的性能。

完美适合您的管道

虽然每个管道都不同,但 Mari 非常适合,支持 OpenColorIO 和 OpenSubdiv 等开放标准、FBX 和 Alembic 等格式,以及广泛的 API 和 Python 脚本

3D投影绘画

借助对 UDIM 工作流程的支持,艺术家可以使用数百个高分辨率纹理贴图。其基于投影的绘画系统允许艺术家在提交之前对绘画进行编辑、在上下文中预览并进行 2D 调整——使艺术家摆脱分辨率和复杂性的限制。

程序性工作流程

Mari 的非破坏性图层和节点图系统使艺术家可以轻松创建他们想要的外观,并提供广泛的程序。材料系统使艺术家能够轻松创建不太复杂、体积较大的资产或快速为他们的英雄资产铺设构建块

生产流水线就绪

借助广泛的 Python API 和完整的 OCIO 颜色管理支持,技术艺术家可以轻松实现工作流程自动化并处理颜色转换。此外,Mari 支持行业标准格式,如 FBX、OBJ、Alembic 和 OpenEXR。

可扩展的质量

Mari 能够在不降低速度的情况下为单个拓扑扩展到超过 100 万个多边形,因此可以处理最棘手的生产网格,并通过 UDIM 支持每个模型的数千个纹理。艺术家可以更加自信地享受 Mari 的着色器和绘制纹理的简化外观开发,因为他们知道他们的艺术在最终渲染中看起来是正确的。

Mari5.0最新版功能

1、程序蒙版

使用新的过程蒙版工作流,快速阻止每个图层影响资产外观的位置。扩展的工作流程使艺术家可以创作,共享和使用程序蒙版预设,并利用“地理通道”使蒙版在程序上适应资产的形式。

2、定制程序

我们扩展了全新的程序蒙版工作流程,以允许艺术家创作,共享和使用自定义的程序预设作为颜色和标量通道的图层。通过快速轻松地应用预设,艺术家可以从程序上屏蔽资产频道的外观。

3、翻新货架

改进后的书架使艺术家的图书馆触手可及。刷新后的UI添加了一个导航窗格,并删除了该软件以前的Shelf Palette的繁琐性质。另外,“货架”项目现在还具有可调整的缩略图大小和全新的,内容丰富的图形化工具提示。

4、材料隔离

使用这种新的着色器模式,美术师可以隔离查看材质,而无需更改任何图层可见性设置,从而允许美术师在完整的光照响应上下文中微调其材质。

5、烘焙点到纹理流

外观开发艺术家现在可以包括命令行过程,以将Bake Point导出的图像文件转换为在每次更新的背景中呈现引擎本机纹理格式。这允许艺术家将本软件纹理数据直接流式传输到Katana中的纹理着色节点。

6、物料烘烤点

“材料烘烤点”节点带有电子表格样式的UI,以批量编辑并一次烘烤材料流的多个属性。与新的“材料隔离”模式配合使用,Mari 4.7可以提高艺术家可以使用的材料数量上限。

7、节点图改进

该软件的“节点图”现在包括新的键盘修改手势,用于选择,导航和移动节点,以及在使用多通道“材质”节点时更智能的链接节点创建。

8、刷新的Python控制台

更新后的Python控制台增加了一系列开发人员的生活质量功能,并为管道TD提供了在管理多个脚本片段时增加的灵活性,以及用于更广泛的脚本编辑的新快捷方式。

Mari5.0最新版特色

1、Mari 3d绘画和纹理流体涂料

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

Mari®将艺术家从分辨率和复杂性的极限中解放出来。 完全支持UDIM工作流程,您可以使用数百个高分辨率纹理贴图,就像它们是单个图块一样,使用投影绘制在一个笔划中绘制多个贴图。 然后,切换到2D模式以修饰单个地图。 有了Mari,唯一的限制就是你的想象力。

2、Mari的3D绘画工具包

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

选择Mari广泛的预设刷子,包括用于去除接缝的“愈合”刷子和用于涂抹纹理的“啜泣”刷子; 导入和使用熟悉的ABR Photoshop笔刷; 创建任意数量的自定义画笔; 或通过图像绘画以添加摄影参考细节。 甚至还有一个矢量画笔,用于创建和编辑矢量流图。

3、非破坏性层堆栈和节点图

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

Mari的非破坏性图层系统可让您自由地将涂料与调整图层,程序和蒙版混合以构建着色器。 无论您是在传统的图层堆栈中工作,还是直接在节点图中创建和编辑连接,您都可以随意重新排序,添加和删除图层; 随时改变混合模式; 并将图层烘烤或压平。

4、Mari程序,调整图层和蒙版图像

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

广泛的程序 - 包括GPU加速噪声和环境遮挡着色 - 使您可以轻松创建所需的外观。 调整图层允许您以非破坏性的方式实时过滤或着色您的绘画。 通过绘制蒙版,使用程序或使用表面属性(如边缘,深度,背面甚至环境遮挡)来控制绘制涂料的位置。

5、支持多种UV技术

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版复杂的几何处理

Mari灵活的纹理处理方法允许您使用标准UV或多瓦片UDIM UV布局,使您可以在多个地图上绘制涂料以捕获更多细节并优化渲染。 对重叠UV的支持使您可以在任何共享UV空间中跨3D模型重复使用相同的纹理,而平铺纹理使得快速覆盖模型上的大区域变得简单。

6、Mari PTEX和纹理转移图像

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

如果您的模型在UV之前就绪,请从PTEX无紫外线工作流程开始,该工作流程允许您在每个面上调整纹理大小,这样您就可以在最有效的位置创建近乎无限的细节。 然后使用强大的纹理传递功能 - 在模型之间传输纹理而不匹配拓扑或UV - 将这些PTEX纹理传输到基于UDIM的纹理贴图设置。

7、复杂的几何处理

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

无缝数据交换

Mari®能够在不降低速度的情况下扩展到超过一百万个多边形,并轻松处理动画几何体,可以应对最棘手的生产网格。 Mari还可以通过UDIM支持每个模型数千个纹理,每个纹理高达32K x 32K像素,因此您可以创建具有几乎无限细节的超现实资产。

8、Mari的逼真交互式预览图像

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

Mari物理上正确的交互式预览功能包括阴影,HDR环境照明,反射,镜面高光,节能的物理BRDF着色器,以及对Arnold,V-Ray,Unreal和Redshift着色器的内置支持,因此您可以在 与您的目标平台紧密匹配的保真度上下文。

9、无缝数据交换

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

Mari®支持行业标准格式,如FBX,OBJ,Alembic和OpenEXR。 内置的mGo系统可让您轻松地将场景往返于Autodesk®Maya®。 在Mari中绘制细分曲面模型,并使用OpenSubdiv驱动的视口平滑。 将通道中的纹理导出为单个图层,展平文件或分层PSD。

10、Mari OCIO色彩管理图片

The Foundry Mari(纹理绘制工具)v5.0最新版

通过OpenColorIO(OCIO)支持,您可以通过设置单个配置文件来跨多个应用程序处理颜色变换和图像显示,从而在整个电路板上提供一致的颜色。 Mari的实现消除了将图像预处理或后处理到正确的色彩空间的需求,从而节省时间并减少错误。

Mari5.0最新版使用说明

1、造型要求

软件使用几何必须满足某些建模要求,无论几何格式是Object,Ptex,Alembic还是FBX文件格式。请记住,允许您导入和绘制具有UV重叠的模型,如下图所示。但是,如果您在3D视图(正交或透视)中的区域上绘制,该区域也会在2D UV视图中重叠,则您可能会遇到绘制伪影,因为软件被迫选择要进行烘焙的哪些相互重叠的绘制笔触。为避免这种情况,您应仅在3D视图中一次将油漆应用于重叠区域之一。

例如,如果您绘制的左右两半已用重叠的UV进行镜像的面,则您应力图仅在该面的一半上进行绘制,以免发生涂料冲突。

注意:在UV视图中不会发生由于UV重叠导致的涂料冲突,因此,如果您发现模型在3D视图中进行绘制特别棘手,则可以始终在该视图中绘制模型。

在软件中绘画的模型不应具有:

(1)在U轴上超过10的UV-将被忽略。

(2)堆叠的UV-无法在UV视图中单独选择这些UV。如果确实有堆叠的UV,并且想要选择单个UV,则需要先在“正交”或“透视”视图中选择它,然后再切换回UV视图。

(3)负UV-不能在这些UV上绘画。

(4)尽管具有退化UV的面(UV被压扁,但它们的面保持完整)可以加载到软件中,但在某些情况下,它们可能会引起问题。它们不会在UV中占据任何空间,因此无法在此类表面上正确绘画。还存在某些着色器在具有退化UV的脸上可能显示出不良照明效果的风险。对于Ptex建模,请参阅Ptex建模要求想要查询更多的信息。

2、控制软件将模型应用于模型的方式

(1)绘画缓冲区

绘画时,软件将绘画保存在缓冲区中,然后将其烘烤到模型的表面上。您可以了解有关涂料缓冲区的信息,并在烘烤之前对缓冲区中的涂料进行转换,遮罩可以在其上绘画的内容,并应用涂料混合模式来控制缓冲区中的涂料在烘烤时如何与表面上的内容混合。绘画时,会保存自上次烘烤油漆缓冲区以来的绘画。然后,当您烘烤时,软件会从缓冲区中保存油漆,将其添加到下面的表面,然后清除缓冲区,以准备更多油漆。当绘画仍在缓冲区中时,您可以对其进行更改。如果您不喜欢所做的工作,则可以使用“画图缓冲区橡皮擦”工具擦除部分内容,或仅使整个画图缓冲区空白。认为缓冲区是浮动在画布上方的。烘焙时,软件将涂料添加到当前图层-但直到那时,您才可以编辑缓冲区,将模型移动到其下方,或切换到另一层并在此处烘焙涂料。烘焙后,您可以设置首选项以保留添加到缓冲区中的新绘画的转换,或者自动将缓冲区重置为软件默认值。

(2)界线:

软件将当前绘制缓冲区的边界显示为白色矩形。默认情况下,绘制缓冲区的大小略大于窗口(也就是说,它覆盖了您可以看到的所有内容),因此边界不可见。调整大小时,将显示边界和当前详细信息。调整大小并旋转了绘画缓冲区-请注意,下面会显示深度和分辨率详细信息。

(3)深度和分辨率

绘画缓冲区具有特定的颜色深度和分辨率,可在应用时控制绘画的颜色和分辨率(而不是要在其上绘制的补丁的颜色和分辨率)。例如:

如果绘画缓冲区的色深为8位(256种颜色),则这是绘画时可以使用的最大颜色数。即使您以16或32位(65536或1670万种颜色)的色深绘画到修补程序上,您要应用的油漆也只有256种颜色。

如果绘画缓冲区的分辨率为512x512,则屏幕上显示的总缓冲区具有该分辨率。您在缓冲区中绘制的所有内容均为512x512。任何分辨率较高的色块仍只能以512x512的分辨率接收涂料。

(4)另一方面,反之亦然。如果您使用1024x1024和16位色的缓冲区在8位色的512 x 512色块上绘画,软件仍会将该色块保存为512x512 8位。使用质量比生成的色块更高的绘制缓冲区的优点是,您可以“过度绘制”并使用更高质量的纹理和颜色深度来确保良好的效果。您可以使用它来帮助平滑颜色之间的过渡(防止步进),或确保纹理清晰(即以补丁的最大分辨率)。

(5)关于蒙版:

在缓冲区内,您可以控制可绘制区域。软件可让您遮罩模型上的区域。遮罩覆盖的区域无法上漆。这在电子上等同于在重新粉刷墙壁时将胶带盖在您不想粉刷的物体上。

(6)包括以下面具类型:

环境光遮挡面罩

深度口罩

背膜

分形噪声面具

可配置的边缘遮罩,用于遮盖模型上与当前视图倾斜的区域,并且

通道蒙版,您可以在其中创建用于蒙版的通道,在其中进行绘制,然后使用它来控制可以在另一个通道上进行绘制的位置。

(7)关于混合模式:

烘烤绘画缓冲区时,默认情况下会将缓冲区的内容添加到下面的图层的表面。如果愿意,可以将缓冲区设置为使用多种其他混合模式中的任何一种。这些对应于在二维图形程序如Photoshop中使用的层的混合模式®或GIMP。软件的默认设置是将缓冲区的内容添加到表面。其他可用的混合模式包括以下几种:

绘制缓冲区与现有曲面之间的数值差异

使用缓冲区的内容作为在表面上躲闪或燃烧的输入

使用缓冲区的内容作为表面强光应用程序的输入。

例如,这是在不同混合模式下的相同油漆飞溅:

默认(结束)模式。

刻录中音模式。

屏幕模式。

差异模式。

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